化学抛光的原理:金属试样表面各组成相的电化学电位不同,形成了许多微电势,在化学溶液中会产生不均匀溶解。在溶解过程中试样面表层会产生一层氧化膜,试样表面凸出部分由于粘膜薄,金属的溶解扩展速度较慢,抛光后的表面光滑,但形成有小的起伏波形,不能达到十分理想的要求。
在化学抛光过程中,金属零件表面不断形成钝化氧化膜和氧化膜不断溶解,且前者要强于后者。由于零件表面微观的不一致性,表面微观凸起部位优先溶解,且溶解速率大于凹下部位的溶解速率;而且膜的溶解和膜的形成始终同时进行,只是其速率有差异,结果使金属零件表面粗糙度得以整平,从而获得平滑光亮的表面。化学抛光可以填充表面毛孔、划痕以及其它表面缺陷,从而提高疲劳阻力、腐蚀阻力。
化学抛光(铜化学抛光剂)
机械抛光是利用机械压力和局部摩擦产生高温作用而获得平滑的非晶型面。化学抛光与机械抛光不同,前者是利用化学溶液对金属表面起溶解作用,而这种溶解作用是基于对金属表面凸起部分溶解速度远比凸陷部分快的假设的基本之上的。化学抛光比机械抛光相对优越,表面在其操作方便、设备简单、费用低且节省电力。
化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解,从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备,可以抛光形状复杂的工件,可以同时抛光很多工件,。化学抛光的问题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数10μm。
在电镀工业中,电镀工件在电镀之前一定要进行一系列的处理,其原因是为了得到更好的镀层。化学抛光在电镀前处理中是至关重要的,电镀前处理不可缺少的是化学抛光。手机配件化学抛光加工
用于金属溶解的成分主要是酸,其中用得较多的是硫酸、、盐酸、磷酸、等,而对于铝那样的金属,也可使用。在这些酸中由于高浓度的磷酸和硫酸都有较高的黏度,可形成液体膜扩散层,故这种成分具有两种功能。这也是化学抛光液的组成中主要采用硫酸和磷酸的原因。
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